酸化と拡散炉

酸化および拡散炉は、半導体デバイス、離散デバイス、光電子デバイス、電子電子デバイス、太陽電池、大規模な統合回路製造などのさまざまな分野で使用されます。それらは、拡散、酸化、アニーリング、合金化、ウェーハの焼結を含むプロセスに利用されます。

Vetek Semiconductorは、酸化および拡散炉での高純度グラファイト、炭化シリコン、クォーツコンポーネントの生産を専門とする大手メーカーです。半導体および太陽光発電産業に高品質の炉成分を提供することに取り組んでおり、CVD-SIC、CVD-TAC、Pyrocarbonなどの表面コーティング技術の最前線にいます。

vetek半導体炭化シリコンコンポーネントの利点：

●高温抵抗（最大1600℃）

●優れた熱伝導率と熱安定性

●良好な化学腐食抵抗

●熱膨張係数が低い

●高強度と硬度

●長いサービスライフ

酸化および拡散炉では、高温と腐食性ガスの存在により、多くの成分には高温および耐食性材料の使用が必要です。以下は、酸化炉と拡散炉に見られる一般的な炭化物成分の成分です。

●ウェーハボート

炭化シリコンウェーハボートは、シリコンウェーハを運ぶために使用される容器であり、高温に耐えることができ、シリコンウェーハとは反応しません。

●炉管

炉チューブは、シリコンウェーハに対応し、反応環境を制御するために使用される拡散炉のコアコンポーネントです。シリコン炭化物炉チューブは、優れた高温および腐食抵抗性能を持っています。

●バッフルプレート

炉内の気流と温度分布を調節するために使用されます

●熱電対保護チューブ

温度測定の熱電対を腐食性ガスとの直接接触から保護するために使用されます。

●カンチレバーパドル

炭化物のシリコンカンチレバーパドルは、高温や腐食に耐性があり、シリコンウェーハを運ぶシリコンボートまたはクォーツボートを拡散炉チューブに輸送するために使用されます。

●ガスインジェクター

炉に反応ガスを導入するために使用されるため、高温や腐食に耐性が必要です。

●ボートキャリア

シリコン炭化物ウェーハボートキャリアは、高強度、腐食抵抗、良好な構造安定性などの利点があるシリコンウェーハを修正およびサポートするために使用されます。

●炉のドア

シリコン炭化物コーティングまたはコンポーネントは、炉のドアの内側にも使用できます。

●加熱要素

シリコン炭化物暖房元素は、高温、高出力に適しており、温度を1000を超える°に迅速に上げることができます。

●SICライナー

炉チューブの内壁を保護するために使用されるため、熱エネルギーの損失を減らし、高温や高圧などの過酷な環境に耐えるのに役立ちます。

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SiCウエハーボート

SICウェーハボートは、主に酸化と拡散プロセスのためにウェーハを運ぶために使用され、ウェーハ表面に温度を均等に分布させることができるようにします。 SIC材料の高温の安定性と高い熱伝導率により、効率的で信頼性の高い半導体処理が保証されます。 Vetek Semiconductorは、高品質の製品を競争力のある価格で提供することに取り組んでいます。

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SICプロセスチューブ

VeTek Semiconductor は、半導体製造用の高性能 SiC プロセスチューブを提供しています。当社の SiC プロセスチューブは、酸化、拡散プロセスに優れています。優れた品質と職人技を備えたこれらのチューブは、効率的な半導体処理のための高温安定性と熱伝導性を提供します。当社は競争力のある価格を提供し、中国における長期的なパートナーとなることを目指しています。

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SiCカンチレバーパドル

Vetek SemiconductorのSICカンチレバーパドルは、ウェーハボートの取り扱いとサポートのために熱処理炉で使用されます。 SIC材料の高温の安定性と高い熱伝導率により、半導体処理プロセスにおける高効率と信頼性が保証されます。私たちは、高品質の製品を競争力のある価格で提供することを約束しており、中国で長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

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SiC ウェーハボートは材料純度に高い要件があります。Vetek Semiconductor は、この製品に SiC 純度 >99.96% を超える再結晶化 SiC を供給しています。VeTek Semiconductor は、研究開発と開発における長年の経験を持つ、横型炉用炭化ケイ素ウェーハボートの中国の専門メーカーおよびサプライヤーです。生産を行うことで、品質を適切に管理し、競争力のある価格を提供できます。横型炉用炭化ケイ素ウェーハボートは安心してご購入いただけます。

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SICコーティングされたシリコンカーバイドウェーハボート

SICコーティングされた炭化シリコンウェーハボートは165個のスロットで設計されており、WAFERSを運ぶために設計されています。VetekSemiconductorは、R＆Dと生産の長年の経験を持つSIC Corated Carbide Waferボートの中国のプロのメーカーおよびサプライヤーであり、品質をうまく制御し、競争力を提供できます。価格。私たちの工場を訪問してくれてようこそ、協力についてさらに議論してください。

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シリコン炭化物カンチレバーパドル

Vetek Semiconductorの炭化シリコンカンチレバーパドルは、特に拡散やRTPなどの高温プロセスで拡散炉またはLPCVD炉に適した半導体製造プロセスの重要なコンポーネントです。当社のシリコン炭化物カンチレバーパドルは、優れた高温抵抗と機械的強度で慎重に設計および製造されており、ディフュージョンやRTPなどのさまざまな高温プロセスの過酷なプロセス条件下で、プロセスチューブにウェーハを安全かつ確実に輸送できます。中国であなたの長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

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Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.

Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.

Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.

For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.

中国の専門家酸化と拡散炉メーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のある酸化と拡散炉を購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。