グラファイト紙

Vetek Semiconductorの標準製品プロセスは以下のとおりです。

1.原料の準備

高純度グラファイト粒子を原料として選択して、その純度と性能を確保します。

2.混合・成形

グラファイト粒子はバインダーと混合され、紙のような材料は成形プロセスによって作られています。

3.バルキング処理

成形されたグラファイト紙は、通常800を超える温度で高温膨張炉に入れられ、グラファイトの十分な膨張と性能の向上を確保します。

4.圧延工程

拡張されたグラファイト紙は、その密度と強度を改善し、製品の品質を確保するためにカレンダーされています。

5.品質検査

製造された高純度グラファイトペーパーの品質は、関連する基準を満たしていることを確認するために厳密にテストされます。

それは半導体ですグラファイトペーパー99.9%以上、密度は1～1.5g/cm3、厚さは一般に0.2mm～6mmの間でカスタマイズも承ります。従来の幅は3〜1500mm、長さは1m〜900mで、顧客のカスタマイズされたニーズにも対応できます。

高純度グラファイト紙さまざまな有利な特性を示し、さまざまな用途に適した多用途の材料となります。加工性に優れているため、さまざまなサイズや形状への打ち抜きが容易で、自由な設計が可能です。グラファイトペーパーは優れた耐高温性を備えており、-40°C ～ 400°C の範囲の極端な温度に耐えることができます。さらに、最大 1500W/mK に達する高い熱伝導率は、アルミニウムや銅などの従来の金属を上回り、熱管理ソリューションに最適な選択肢となっています。

材料の柔軟性により、金属、絶縁層、または接着剤を備えたシームレスなラミネーションが可能になり、設計の可能性が向上します。グラファイトペーパーの軽量性は、アルミニウムや銅よりも大幅に軽量であり、アプリケーションの全体的な減量に貢献しています。さらに、その使いやすさは、平らな表面または曲がった表面にスムーズに接着する能力によって例示されているため、効率的な熱管理ソリューションを必要とするさまざまな業界にとって便利な選択肢となっています。

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