シリコンエピタキシー

シリコンエピタキシー、EPI、エピタキシー、エピタキシャルとは、単結晶シリコン基板上に同じ結晶方向と異なる結晶厚さをもつ結晶層を成長させることを指します。半導体ディスクリート部品や集積回路の製造には、半導体中に含まれる不純物としてN型とP型が存在するため、エピタキシャル成長技術が必要となります。半導体デバイスは、異なる種類を組み合わせることで、さまざまな機能を発揮します。

シリコンエピタキシー成長法は気相エピタキシー、液相エピタキシー（LPE）、固相エピタキシーに分けられ、格子整合性を満たすために化学気相成長法が世界中で広く使用されています。

代表的なシリコンエピタキシャル装置はイタリアのLPE社に代表され、パンケーキエピタキシャル催眠装置、バレル型催眠装置、半導体催眠装置、ウエハキャリア等を有しています。樽型エピタキシャルハイペクター反応室の模式図は以下の通りです。 VeTek Semiconductor は、バレル形状のウェーハエピタキシャルハイプレクターを提供できます。 SiC コーティングされた HY ペレクターの品質は非常に成熟しています。 SGLと同等の品質。同時に、VeTek Semiconductor はシリコンエピタキシャル反応キャビティ石英ノズル、石英バッフル、ベルジャーおよびその他の完成品も提供できます。

シリコンエピタキシー用垂直エピタキシャルサセプター:

Schematic diagram of Vertical Epitaxial Susceptor for Silicon Epitaxy

VeTek Semiconductorの主な垂直エピタキシャルサセプタ製品

EPI用SiCコーティンググラファイトバレルサセプタ SiC コーティングされたバレルサセプター CVD SiC コーティングバレルサセプタ LPE SI EPI 受容体セット

シリコンエピタキシー用の水平エピタキシャルサセプター:

Schematic diagram of Horizontal Epitaxial Susceptor for Silicon Epitaxy

Vetek Semiconductor の主な水平型エピタキシャルサセプタ製品

SiCコーティング単結晶シリコンエピタキシャルトレイ LPE PE2061S 用 SiC コーティングサポートグラファイト回転レシーバー

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CVD SICコーティングバッフル

VetekのCVD SICコーティングバッフルは、主にSiエピタキシーで使用されています。通常、シリコンエクステンションバレルで使用されます。 CVD SICコーティングバッフルのユニークな高温と安定性を組み合わせて、半導体製造における気流の均一な分布を大幅に改善します。当社の製品は、高度なテクノロジーと高品質の製品ソリューションを提供できると考えています。

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SICコーティングバレル受容器

エピタキシーは、既存のチップ上で新しい結晶を栽培して新しい半導体層を作成するために半導体デバイス製造で使用される技術です。VetekSemiconductorは、LPEシリコンエピタキシー反応チャンバーの包括的なコンポーネントソリューションを提供し、長寿命、安定した品質、および改善されたエピタキシアルを提供します。層の収量。 SICコーティングバレル受容器などの当社の製品は、顧客からポジションフィードバックを受け取りました。また、SI EPI、SIC EPI、MOCVD、UV主導のエピタキシーなどの技術サポートも提供しています。価格情報についてお問い合わせください。

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EPIレシーバーの場合

中国のトップ工場であるVetek Semiconductorは、精密機械加工と半導体SiCおよびTaCコーティング能力を兼ね備えています。バレル型Siエピサセプタは温度・雰囲気制御機能を備え、半導体エピタキシャル成長プロセスの生産効率を向上させます。貴社との協力関係を確立することを楽しみにしています。

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したがって、コーティングされたエピ科学

炭化ケイ素および炭化タンタルコーティングの国内トップメーカーとして、VeTek Semiconductor は、SiC コーティングされたエピサセプターの精密機械加工と均一なコーティングを提供し、コーティングと製品の純度を 5ppm 以下に効果的に制御することができます。製品寿命はSGLと同等です。お問い合わせお待ちしております。

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LPE SI EPI 受容体セット

フラット受容器とバレル受容器はEPI容疑者の主な形状です。Vetek半導体は、中国の主要なLPE SI EPI SIPI SICTEPTOR SETメーカーおよびイノベーターです。長年にわたってSICコーティングとTACコーティングに特化しています。 LPE PE2061S 4 "ウェーハ用に特別に設計されたセット。グラファイト材料とSICコーティングのマッチング度は良好で、均一性は優れており、寿命は長く、LPE中のエピタキシャル層の成長を改善できます（液相エピタキシー）プロセス。中国の工場を訪問することを歓迎します。

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EPIのSICコーティンググラファイトバレル受容器

バレルタイプのエピタキシャルウェーハ加熱ベースは、複雑な加工技術を備えた製品であり、機器と能力を加工するのに非常に困難です。 Vetek Semiconductorは、EPIのSICコーティングされたグラファイトバレル受容器の処理における高度な機器と豊富な経験を持っています。元の工場寿命と同じ、より費用対効果の高いエピタキシャルバレルを提供できます。

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中国の専門家シリコンエピタキシーメーカーおよびサプライヤーとして、私たちは独自の工場を持っています。あなたの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要であるか、中国製の高度で耐久性のあるシリコンエピタキシーを購入したい場合でも、メッセージを残すことができます。