電気融合クォーツは、高純度の四塩化シリコン(SICL₄)で作られており、水素酸素炎の融解プロセスによって洗練されています。電気融合クォーツは内部に泡がなく、優れた性能と安定性を持ち、過酷な光学および半導体環境での長期的な安定使用を確保しています。現在、電気融合クォーツは、半導体および光学界で広く使用されています。
● 電気溶融石英は、半導体ウェーハの製造および加工において重要な役割を果たしており、通常はウェーハホルダー、キャリア、拡散管などの部品として使用されます。高温安定性と耐食性により、高温および過酷な化学環境下での材料の純度と安定性が保証され、また、その低い膨張係数により、高温処理中の寸法安定性が保証されます。 ● フォトリソグラフィマスク。半導体製造では、石英るつぼセラミックはフォトリソグラフィマスクの基板材料としても使用されます。その高純度および優れた光透過性により、紫外および深紫外 (DUV) リソグラフィーでの正確なパターン転写が可能になります。 ● ガス拡散管および反応チャンバー。電気溶融石英製の拡散管や反応室は、CVD、酸化、拡散などのプロセスに最適な素材です。これらの部品は高温での耐食性に優れており、反応性ガスと反応しないため、不純物の混入が回避され、製品の品質が向上します。
● 電気溶融石英は、半導体ウェーハの製造および加工において重要な役割を果たしており、通常はウェーハホルダー、キャリア、拡散管などの部品として使用されます。高温安定性と耐食性により、高温および過酷な化学環境下での材料の純度と安定性が保証され、また、その低い膨張係数により、高温処理中の寸法安定性が保証されます。
● フォトリソグラフィマスク。半導体製造では、石英るつぼセラミックはフォトリソグラフィマスクの基板材料としても使用されます。その高純度および優れた光透過性により、紫外および深紫外 (DUV) リソグラフィーでの正確なパターン転写が可能になります。
● ガス拡散管および反応チャンバー。電気溶融石英製の拡散管や反応室は、CVD、酸化、拡散などのプロセスに最適な素材です。これらの部品は高温での耐食性に優れており、反応性ガスと反応しないため、不純物の混入が回避され、製品の品質が向上します。
●高精度の光学コンポーネント。電気融合クォーツは、特に高透過率と低分散を必要とする用途では、その高い透過率と均一性のため、レンズ、プリズム、リフレクターなどの光学成分の製造によく使用されます。 ● UV および深 UV 光学アプリケーション。電気溶融石英は、紫外および深紫外帯域で優れた光透過率を有しており、特に紫外光学システムに適しています。高純度で不純物含有量が低いため、UV 帯域の光吸収が低減され、深 UV 光学システムにおいて重要な材料となっています。 ● レーザー光学部品。高エネルギー レーザー システムでは、高エネルギー レーザー衝撃に対する耐性と低い複屈折性により、石英るつぼセラミックがレーザー ウィンドウ、ビーム スプリッター、フィルターなどのコンポーネントの製造によく使用されます。高純度の構造により光損失や熱変形が回避され、高出力レーザー システムに最適です。
●高精度の光学コンポーネント。電気融合クォーツは、特に高透過率と低分散を必要とする用途では、その高い透過率と均一性のため、レンズ、プリズム、リフレクターなどの光学成分の製造によく使用されます。
● UV および深 UV 光学アプリケーション。電気溶融石英は、紫外および深紫外帯域で優れた光透過率を有しており、特に紫外光学システムに適しています。高純度で不純物含有量が低いため、UV 帯域の光吸収が低減され、深 UV 光学システムにおいて重要な材料となっています。
● レーザー光学部品。高エネルギー レーザー システムでは、高エネルギー レーザー衝撃に対する耐性と低い複屈折性により、石英るつぼセラミックがレーザー ウィンドウ、ビーム スプリッター、フィルターなどのコンポーネントの製造によく使用されます。高純度の構造により光損失や熱変形が回避され、高出力レーザー システムに最適です。
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