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cvd sicコーティング硬質フェルト
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cvd sicコーティング硬質フェルト

SICコーティングハーフムーングラファイト部品の重要な部分として、CVD SICコーティング剛性は、SICエピタキシャル成長プロセス中の熱保存において重要な役割を果たします。 Vetek Semiconductorは、成熟したCVD SICコーティングリジッドフェルトメーカーおよびサプライヤーであり、顧客に適切で優れたCVD SICコーティングリジッドフェルト製品を提供できます。 Vetek Semiconductorは、エピタキシャル産業の長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

CVD SICコーティングリジッドフェルトは、熱断熱層として機能するグラファイトリジッドフェルトの表面にCVD SICコーティングによって得られるコンポーネントです。CVD SICコーティング高温抵抗、優れた機械的特性、化学的安定性、良好な熱伝導率、電気断熱性、優れた酸化抵抗などの優れた特性があります。したがって、CVD SICコーティング硬質フェルトは、強度と高温抵抗が良好であり、通常、熱断熱とエピタキシャル反応チャンバーのサポートに使用されます。


高純度グラファイトリジッドフェルトプロパティ:


  ● 高温抵抗:CVD SICコーティング硬質フェルトは、材料の種類に応じて、最大1000℃以上の温度に耐えることができます。

  ●  化学的安定性:CVD SICコーティング硬質フェルトは、エピタキシャル成長の化学環境で安定したままであり、腐食性ガスの侵食に耐えることができます。

  ●  熱絶縁性能:CVD SICコーティングリジッドフェルトは、優れた熱分離効果があり、反応チャンバーから熱が消散するのを効果的に防ぐことができます。

  ●  機械的強度:SICコーティングハードフェルトには、機械的な強度と剛性が良好であるため、その形状を維持し、高温で他のコンポーネントをサポートできます。


硬いグラファイトフェルト関数:


  ●  熱分離:CVD sicコーティングリジッドフェルトは、熱断熱を提供しますsicエピタキシャル反応室は、チャンバー内の高温環境を維持し、エピタキシャル成長の安定性を保証します。

  ●  構造的サポート:CVD SICコーティングリジッドフェルトはサポートを提供しますハーフムーンパーツおよび高温および高圧下での変形または損傷の可能性を防ぐための他の成分。

  ●  ガスフロー制御:反応チャンバー内のガスの流れと分布を制御し、さまざまな領域でのガスの均一性を確保し、それによりエピタキシャル層の品質を改善するのに役立ちます。


Vetek Semiconductorは、あなたのニーズに応じて、カスタマイズされたCVD sicコーティング硬質フェルトを提供できます。 Vetek Semiconductorはあなたの問い合わせを待っています。


 CVD SICコーティングの基本的な物理的特性:


CVD SICコーティングの基本的な物理的特性
財産
典型的な値
結晶構造
FCCβ相多結晶、主に(111)配向
密度
3.21 g/cm³
硬度
2500ビッカーズの硬度(500g負荷)
穀物e
2〜10mm
化学純度
化学純度99.99995%
熱容量
640 J・kg-1・k-1
昇華温度
2700℃
曲げ強度
415 MPA RT 4ポイント
ヤングモジュラス
430 GPA 4PTベンド、1300℃
熱伝導率
300W・m-1・k-1
熱膨張(CTE)
4.5×10-6K-1

cvd sicコーティングリジッドフェルトショップ:


CVD SiC coating rigid felt shops

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