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Vetek半導体の3ペタルグラファイトるつぼは、単結晶熱界を引くために使用される表面熱分解カーボンコーティングによって加工された高純度グラファイト材料で作られています。従来のるつぼと比較して、3ローブ設計の構造は、設置と分解、作業効率の向上により便利であり、5ppm未満の不純物は半導体および太陽光発電業界の適用を満たすことができます。

Vetek Semiconductorは、中国のカスタマイズされたUltra Pure Graphite Lower Halfmoonの大手サプライヤーであり、長年にわたって高度な材料を専門としています。当社のウルトラピュアグラファイト下ハーフムーンは、SICエピタキシャル機器用に特別に設計されており、優れた性能を確保しています。ウルトラピュアインポートグラファイトから作られ、信頼性と耐久性を提供します。中国の工場にアクセスして、高品質のウルトラピュアグラファイト下半日中ムーンを直接探索してください。いつでも相談してください。

Vetek Semiconductorは、中国でコーティングされたカスタマイズされたアッパーハーフムーンパートSICの大手サプライヤーであり、20年以上にわたって高度な材料を専門としています。 vetek半導体上半分moonパートSICコーティングは、反応チャンバー内の重要な成分として機能するSICエピタキシャル装置用に特別に設計されています。超純粋な半導体グレードグラファイトから作られ、優れた性能を確保します。中国の工場を訪問することをお勧めします。いつでも相談してください。

VETEK半導体は、中国の主要なカスタマイズされたカスタマイズされた炭化シリコンエピタキシーウェーハキャリアサプライヤーです。20年以上先進材料に特化しています。SIC基板を運ぶためのシリコン炭化物エピタキシーウェーハキャリアを提供し、SICエピタキシャル反応器でSICエピタキシー層を栽培しています。このシリコン炭化物エピタキシーウェーハキャリアは、ハーフムーン部の重要なSICコーティングされた部分、高温抵抗、酸化抵抗、耐摩耗性です。中国の工場を訪問することを歓迎します。いつでも相談してください。

Vetek半導体が提供する高純度多孔質グラファイトは、高度な半導体処理材料です。優れた熱伝導率、良好な化学的安定性、優れた機械的強度を備えた高純度の炭素材料で作られています。この高純度の多孔質グラファイトは、単結晶SICの成長プロセスにおいて重要な役割を果たします。 Vetek Semiconductorは、高品質の製品を競争力のある価格で提供することに取り組んでおり、中国で長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

Vetek SemiconductorのSICコーティングMOCVD受容器は、優れたプロセス、耐久性、信頼性を備えたデバイスです。彼らは高温と化学環境に耐え、安定した性能と長寿命を維持することができ、それにより交換とメンテナンスの頻度を減らし、生産効率を改善します。当社のMOCVDエピタキシャル受容器は、高密度、優れた平坦性、優れた熱制御で有名であり、厳しい製造環境で優先される機器になります。あなたと協力することを楽しみにしています。いつでも相談したいと思います。