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SICセラミックは、シリコン（SI）と炭素（C）要素の反応によって生成されるセラミック材料であり、非常に高い硬度、耐熱性、化学的安定性を特徴としています

半導体製造のハイステークスの世界では、精度と安定性がすべてです。それが静電チャック（ESC）が介入するところです。保持ツールだけでなく、ESCは静電力を使用して、エッチング、堆積、イオンの着床などの重要なプロセス中にしっかりと覆われています。しかし、それは実際にどのように機能しますか？なぜそれが従来の機械的クランプよりも優れているのですか？そして、ナノスケールの精度とスループット効率を達成する上でどのような役割が果たしていますか？読んでください。

静電チャックのデカックの原理は、静電力の除去とウェーハ放出メカニズムを含むワークフローの重要な部分です。

Glassy Carbonは、ガラスとセラミックの特性を組み合わせた非引力炭素です。高温抵抗、耐食性、良好な電気伝導性などの多くの特性があります。このブログは、読む価値のあるガラス炭素の研究履歴と将来の開発動向を分析しています。

半導体製造では、さまざまな種類の半導体セラミックコンポーネント製品が必要です。これらの製品は、対応する機能を再生するために、異なる特性のためにさまざまな生産シナリオで使用されます。それらは、半導体加工業界で不可欠な製品です。

Tantalum Carbide（TAC）は、非常に高い硬度、高い融点、優れた化学的安定性で知られる高性能セラミック材料です。半導体、航空宇宙、その他の産業で広く使用されており、極端な熱、摩耗、耐食性が必要です。この記事では、半導体製造における完成品の構造、物理的特性、および特定の使用を詳細に分析します。