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私たちは、私たちの仕事の結果、会社のニュースを喜んで共有し、タイムリーな開発や人事の任命と解任の条件をお知らせします。

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27 2024-07

ALD原子層堆積レシピ

空間ALD、空間的に分離された原子層堆積。ウェーハは異なる位置を移動し、各位置で異なる前駆体にさらされます。以下の図は、従来のALDと空間的に分離されたALDの比較です。

27 2024-07

タンタルム炭化物技術のブレークスルー、SICエピタキシャル汚染は75％減少しましたか？

最近、ドイツの研究所Fraunhofer IISBは、Tantalum Carbide Coating Technologyの研究開発においてブレークスルーを行い、CVD堆積ソリューションよりも柔軟で環境に優しいスプレーコーティング溶液を開発し、商品化されています。

19 2024-07

半導体産業における 3D プリンティング技術の応用の探索

急速な技術発展の時代において、3D プリンティングは高度な製造技術の重要な代表として、従来の製造の様相を徐々に変えつつあります。技術の継続的な成熟とコスト削減により、3D プリンティング技術は航空宇宙、自動車製造、医療機器、建築設計などの多くの分野で幅広い応用の可能性を示し、これらの産業の革新と発展を促進してきました。